第44章 “双透镜”与雷击的院士

　　“蚀刻！光线聚焦蚀刻！这不就是光刻的原理吗！”

　　方振国死死地盯着那幅画，呼吸瞬间变得急促，整个人像是被施了定身法，一动不动地僵在了原地。

　　他的大脑，在这一刻，以前所未有的速度疯狂运转起来。

　　“不对！”

　　他很快又皱起了眉头，喃喃自语，

　　“不对，单透镜聚焦的精度是有物理极限的，我们就是卡在了这个衍射极限上！

　　林卫东他们那群人，把全世界所有关于单透镜成像的理论都翻烂了，此路不通！”

　　他百思不得其解，难道这幅画，就真的只是一幅普通的涂鸦？

　　是自己想多了？

　　就在他失望地准备彻底放弃时，

　　他那双因为年老而有些昏花的眼睛，几乎是本能地，凑得离那幅画更近了一些，像是在用显微镜，观察着画上的每一个细节。

　　突然！

　　他发现了画中的一个，极其诡异，极其微小，却又足以颠覆一切的细节！

　　在那个被画得大大的放大镜，和地面上那只可怜的蚂蚁之间。

　　淼淼用一支淡蓝色的蜡笔，轻轻地，画了一个小小的、几乎透明的、不仔细看根本无法发现的……“水滴”！

　　那个“水滴”，就悬浮在半空中，在那束被聚焦的红色光线正中央！

　　“水滴？！”

　　“水滴……也是透镜！”

　　方振国的大脑，在看清那个“水滴”的瞬间，轰然炸响！

　　他瞬间就明白了！

　　一切都明白了！

　　“双透镜！这是双透镜聚焦系统！”

　　他激动得浑身都在发抖，嘴唇哆嗦着，几乎无法说出一句完整的话。

　　“放大镜是第一重聚焦，将来自太阳的平行光，变成锥形的光束！

　　而这个‘水滴’，这个小小的，不起眼的‘水滴’，是第二重聚焦！

　　它在极短的距离内，对已经被汇聚过一次的光束，进行二次偏折和再聚焦！”

　　“天啊！天啊！这个思路！这个思路！”

　　这不是简单的一加一等于二！在光学领域，这是一个指数级的精度提升！

　　这个构想，完全绕开了对单一超高精度镜头的依赖！

　　它用两个，甚至多个普通的镜头，通过精密到极致的计算和位置调校，

　　在理论上，完全可以实现，甚至超越那台“神级光刻机”的镜头效果！

　　“神谕！这才是真正的神谕啊！”

　　方老再也控制不住自己的情绪，他像个疯子一样，一把从墙上撕下那幅画，紧紧地攥在手里，仿佛攥住了整个国家的未来。

　　他转身就往研究院的光学实验室方向狂奔！

　　他跑得太快，太急，甚至一头撞倒了刚刚拍完照，正准备从另一边溜走的马文。

　　“哎哟！”

　　马文被撞得人仰马翻，相机都掉在了地上。

　　“方老！您看着点路！”

　　他狼狈地从地上爬起来，刚想发火。

　　可方振国却像根本没看到他一样，连一句道歉都忘了说，就那么举着那幅画，疯了一样地，从他身边冲了过去。

　　马文看着方老那癫狂的背影，和他手中那幅被当成宝贝一样紧紧攥着的，自己刚刚还在鄙夷的“傻子涂鸦”，眼神变得无比阴狠和扭曲。

　　他更加确信了！

　　方振国这群人，就是靠着这个傻子的“胡言乱语”在邀功！在欺骗整个国家！

　　“疯了！你们这群老家伙，全都疯了！”

　　他咬牙切齿地从牙缝里挤出这句话，捡起地上的相机，消失在了走廊的阴影里。

　　……

　　光学实验室内。

　　方振国一脚踹开大门，把里面所有正在埋头研究数据的顶级光学专家都吓了一跳。

　　“都别研究了！你们那套东西都是垃圾！”

　　方老冲到会议桌前，将那幅已经被他手心的汗水浸得有些褶皱的画，“啪”的一声，拍在了桌子中央。

　　“别问为什么！现在，立刻！马上！按照这个思路，给我建一个数学模型！”

　　所有专家都围了过来，看着桌上那幅幼稚的涂鸦，面面相觑，一个个脸上都写满了“你是不是在开玩笑”的表情。

　　“方老，您……您这是什么意思？这不就是小孩子画的画吗？”

　　一个戴着金丝眼镜的专家忍不住问道。

　　“是啊，方老，双透镜组合成像系统，我们早就研究过了。”

　　另一个专家扶了扶眼镜，很专业地解释道，

　　“两个透镜组合，会产生极其严重的球差和色散，成像的精度，反而会比单透镜更低！这是写在教科书里的基础理论！”

　　“理论！理论！你们的脑袋里就只剩下理论了吗！”

　　方老一巴掌拍在桌子上，震得桌上的仪器都跳了一下。

　　“按我说的做！

　　把所有的变量都给我考虑进去！

　　两个镜片的曲率！

　　它们之间的间距！

　　材料的折射率！

　　还有光源的波长！

　　所有的变量！

　　都给我列出来！

　　用院里那台最快的计算机，给我算！

　　就算今天把机器算到冒烟，也要给我一个结果出来！”

　　方老的权威和那股不容置疑的癫狂，压下了一切质疑。

　　专家们虽然满腹狐疑，但也只能硬着头皮，开始按照这个在他们看来荒谬绝伦的“涂鸦”，建立数学模型。

　　几个小时后。

　　在研究院那台最顶级的，运算速度高达每秒十万次的“银河一号”巨型计算机的疯狂运算下，一个初步的理论模型，终于出现在了中央主控台的大屏幕上。

　　当看到屏幕上最后生成的那条，代表着理论聚焦精度的性能曲线，以一种无可阻挡的姿态，轻松突破了“1微米”的技术壁垒，最终稳稳地停在了“0.8微米”的刻度上时。

　　整个实验室，瞬间陷入了死一般的寂静！

　　所有之前还在质疑的专家，此刻都像是被一道无形的闪电劈中，一个个目瞪口呆，如遭雷击，呆立当场！
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